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      北京蒙泰有研技術開發中心

      主營:光學鍍膜材料,濺射靶材,陶瓷靶材,蒸發料,蒸鍍材料,晶體硒化鋅,二氧化鉿,陶瓷靶材,濺射靶材,五氧化三鈦,二氧化鈦,高純金屬

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      公司簡介

      北京蒙泰有研技術開發中心,成立于1999年,專業從事光學鍍膜材料開發生產。我中心有光學鍍膜材料專家教授數名,堅實的技術陣容為我們的發展奠定了良好的基礎。

      在有關科研單位大專院校的協助下,我們開發了七十余種鍍膜材料,并建立了一套穩定的生產工藝形成了較強的科研生產能力。產品包括金屬基,氧化物,氟化物及其它化合物類型的光學鍍膜材料,適用于電子槍和熱蒸發鍍膜。所有產品嚴格按照標準生產,部分產品銷往臺灣,日本,美國、韓國等國家及地區。

      主要用途:

      鍍制:復合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,激光裝置濾光片,保護膜,透明導電膜,變色膜,優良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見光區增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光燈、冷光碗,各種鏡片鍍膜等。

      一.、光學鍍膜材料

      1.氧化物:

      SiO,HfO2,二硼化鉿,氯氧化鉿,ZrO2,TiO2,TiO,SiO2,Ti2O3,Ti3O5,Ta2O5,Nb2O5,Al2O3,Sc2O3,In2O3,Pr(TiO3)2,CeO2,MgO,WO3,Sm2O3,Nd2O3,Bi2O3,Pr6O11,Sb2O3,V2O5,NiO,ZnO,Fe2O3,Cr2O3,CuO等。

      2.氟化物:

      MgF2,YbF3,LaF3,DyF3,NdF3,ErF3,KF,SrF3,SmF3,NaF,BaF2,CeF3,氟化鉛等。

      4.混合料:

      氧化鋯氧化鈦混合料,氧化鋯氧化鉭混合料,氧化鈦氧化鉭混合料,氧化鋯氧化釔混合料,氧化鈦氧化鈮混合料,氧化鋯氧化鋁混合料,氧化鎂氧化鋁混合料,氧化銦氧化錫混合料,氧化錫氧化銦混合料,氟化鈰氟化鈣混合料等混合料

      3.金屬類:

      高純鋁絲(5N)Al,高純鋁粒Al、高純鋁片Al、高純鋁柱Al、高純鉻粒Cr,高純鉻粉Cr,鉻條Cr,水銀條Cr,高純金絲Au,高純金片Au,高純金粉Au,高純金粒Au,高純銀絲Ag、高純銀粒Ag、高純銀粉Ag、高純銀片Ag、高純鉑絲Pt,高純鉿粉Hf,高純鉿絲Hf、高純鉿粒Hf,高純鎢粒w、高純鉬粒Mo,高純單晶硅Si,高純多晶硅、高純鐵粒Fe、高純鐵粉,高純鋯絲Zr,高純鋯粉,高純鋯粒,高純鋯塊,高純碲粒(6N)Te,高純鍺粒(6N)Ge,高純鈦粉Ti,高純鈦粒、高純鎳粉Ni,高純鎳絲Ni、高純鎳片Ni、高純鎳柱Ni、高純鉭片Ta、高純鉭粉Ta、高純鉭絲Ta、高純鉭粒Ta、高純鎳鉻絲NiCr,高純鎳鉻粒NiCr,灰色熱反射膜合金,金紅膜合金。

      5.其他化合物:

      鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鑭LaTiO3,硫化鋅ZnS,冰晶石Na3AlF6,硒化鋅ZnSe,硫化鎘。

      6.輔料:

      鉬片,鉬舟、鉭片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。

      二、靶材(純度:99.9%-99.999%)

      1.金屬靶材:

      鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、鎢靶w、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶W等

      2.陶瓷靶材:

      ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、氧化鋁靶、硫化鋅靶、硫化鋅二氧化硅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、氧化鈮靶、二氧化鈦靶、五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、三氧化二鋁靶、二氧化鉿靶、靶材等。

      電話:010-82746816、82746896、

      BEIJINGMOUNTAINTECHNICALDEVELOPMENTCENTERFORNON―FERROUS


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