ITO靶材在濺射鍍膜過(guò)程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過(guò)去，這些價(jià)值的廢料往往被簡(jiǎn)單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。
ITO靶材的基本介紹：
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應(yīng)用領(lǐng)域：液晶顯示、OLED、太陽(yáng)能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
ITO靶材回收的必要性
1. 資源稀缺：銦為稀有金屬，資源有限，價(jià)格昂貴。
2. 成本控制：回收廢舊ITO靶材可降低企業(yè)原材料采購(gòu)成本。
3. 環(huán)保要求：減少?gòu)U棄物排放，符合綠色生產(chǎn)理念。
從用過(guò)的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個(gè)步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標(biāo)材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。
